Porównanie wybranych konwencjonalnych i niekonwencjonalnych metod cięcia krzemu
Comparsion selected conventional and unconventional methods of silicon cutting
Mechanik nr 04/2015 - Artykuły z XII Międzynarodowej Konferencji Electromachining 2015 zamieszczone na płycie CD
STRESZCZENIE: Artykuł jest przeglądowym opisem stosowanych przez autorów w badaniach własnych technik cięcia krzemu. Zwrócono uwagę na własne doświadczenia oraz opisano wady i zalety poszczególnych metod.
SŁOWA KLUCZOWE: cięcie krzemu, cięcie ściernicą, ciecie erozyjne.
ABSTRACT: The article is a review of techniques applied by the authors for cutting of silicon. It is noted on your own experience and describes defects advantages and disadvantages of each method.
KEYWORDS: silicon cutting, abrasive cutting, WEDM.
BIBLIOGRAFIA / BIBLIOGRAPHY:
- Ashcroft N.W., Mermin N.D.: Fizyka ciała stałego. PWN, Warszawa 1986.
- PN-1997/M-04250, Warstwa wierzchnia. Terminologia.
- 100 Poroś D.: Dobór elektrody drutowej do wycinania elektroerozyjnego materiałów trudno obrabialnych. Rozprawa doktorska, Politechnika Wrocławska, Wrocław 2007.
- Wells A.B., Subrahmanyan P.K.: Machine for precision high-speed cutting of semiconduktor wafers. Electro Scientific Industries, Inc., Portland 2003.
- Richerzhagen B.: The waterjet-guided laser in wafer cutting. Parc Scientifique A, Switzerland 2004.
- Yoo W. S., Fukada T., Yokoyama I . , Kang K., Takahashi N.: Thermal Behavior of Large-Diameter Silicon Wafers during High-Temperature Rapid Thermal Processing in Single Wafer Furnace. The Japan Society of Applied Physics, Tokyo 2002.
- Cosford L., Swift V.: Laser cutting of silicon wafers. Enabling Technology, 2008.
- Kula P.: Inżynieria warstwy wierzchniej. Monografie, Łódź 2000.
- Kaczmarek J.: Podstawy obróbki wiórowej, ściernej i erozyjnej. WNT, Warszawa 1970.
- Ruszaj A., Gawlik J., Skoczypiec S.: Stan badań i kierunki rozwoju wybranych niekonwencjonalnych procesów wytwarzania. Inżynieria Maszyn – rok 14, zeszyt 1, Wydawnictwo NOT, Wrocław 2009.
- Chojnacki J.: Elementy krystalografii chemicznej i fizycznej. PWN, Warszawa 1971.
- Many A., Goldstein Y., Grover N.B.: Semiconductor surfaces. J. Wiley, New York 1965.
